深圳市珀光达智能科技有限公司高端薄膜制造核心装备 / PEROVSKITE & SEMICONDUCTOR

PROCESS & VALIDATION

25点膜厚测量记录

公司资料列示8组25点膜厚测试,各组样品的膜厚均匀性结果为1.52%–1.97%。

PODAR / PROCESS TO PRODUCTION工艺 × 装备 × 数据
25点膜厚测量记录
公司资料展示 · 样品验证

TECHNICAL PATH

验证路径与关注点

  • 以多点测量评价膜厚分布
  • 资料图表列示各组均匀性结果
  • 后续需补齐样品、测试年份及计算口径
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8组样品膜厚均匀性记录 / %

第01组1.79%
第02组1.61%
第03组1.90%
第04组1.52%
第05组1.97%
第06组1.79%
第07组1.70%
第08组1.80%

资料为每组25点测量;测点原始数据、年份及计算口径尚需补齐,不能据此单独复算。

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